產品詳情
簡單介紹：
臥式低壓化學氣相沉積爐管
臥式低壓化學氣相沉積爐管用于沉積高品質的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅；用于沉積高品質的低應力氮化硅或氮氧化硅。
詳情介紹：
臥式低壓化學氣相沉積爐管
產品簡介
用于沉積高品質的n型摻雜或非摻雜的多晶硅或非晶硅；用于沉積高品質的低應力氮化硅或氮氧化硅。
主要技術指標
爐管1：N型多晶硅以及非晶硅薄膜沉積工藝
氣體：高純N2、SiH4、PH3
爐管2：低應力氮化硅，氮氧化硅薄膜
氣體：高純N2、NH3、N2O、SiH2Cl2
溫度：700-900 °C
硅片尺寸：3英寸、4英寸、6英寸圓片；50片/爐
